MRP系列磁流变抛光机,采用特殊配置的磁流体抛光液,在磁场的精确控制下对光学镜片进行抛光,具有极高的加工精度,适用于绝大多数应用场合下的最终加工工序。
材料适用性:石英、微晶、ULE、BK7、单晶硅、SiC等
形状适用性:平面、球面、二次曲面、高次非球面、自由曲面
加工精度:优于1/100λ(λ=632.8nm)RMS
表面粗糙度:优于0.5nm RMS
技术优势
抛光颗粒沿光学表面切向划擦,不产生裂纹,得到近零疵病的表面;可实现纳米量级材料去除分辨率,加工精度高;材料去除稳定性24小时内优于2%,加工确定性好;单位面积的材料去除率与小磨头抛光相当,加工效率高;5轴联动,适应一般高次非球面和自由曲面加工。
项目
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MRP300
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MRP600
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MRP1000
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床身材料 | 天然花岗岩 | ||
运动轴数 | X/Y/Z/A/B/C六轴五联动 | ||
加工空间 | 400×400×150mm | 700×700×200mm | 1100×1100×250mm |
最大可加工工件尺寸(φ×H) | 300×150mm | 600×200mm | 1000×250mm |
驱动形式 | 直线电机 | ||
重复定位精度 | X/Y/Z优于±1μm | X/Y/Z优于±2μm | X/Y/Z优于±3μm |
A/B/C ±10" | A/B/C ±10" | A/B/C ±10" | |
最大运动速度 | X/Y/Z 3000mm/min | ||
A/B/C 20rpm | |||
抛光轮尺寸 | 70mm/200mm | 70mm/200mm/340mm | 200mm/340mm |
抛光轮最大转速 | 750rpm/300rpm | 750rpm/300rpm/200rpm | 300rpm/200rpm |
抛光轮最大跳动 | 3μm/8μm | 3μm/8μm/20μm | 8μm/20μm |
流量循环稳定性 | 0.5% (4h) | 0.5% (4h) | 2% (4h) |
粘度循环稳定性 | 0.2% (4h) | 0.2% (4h) | 0.2% (4h) |
去除函数稳定性 | 2% (4h) | 2% (4h) | 5% (4h) |
外形尺寸 (长×宽×高) | 4000mm×3000mm×2200mm | 4500mm×3500mm×3000mm | 5000mm×4500mm×3800mm |
产品质量 | 4000kg | 9000kg | 14500kg |
工作气压 | 0.7Mpa | 0.7Mpa | 0.7Mpa |
工作功率 | 13KW | 18KW | 21KW |
工作电压 | 三相交流3×380V±10% | 三相交流3×380V±10% | 三相交流3×380V±10% |
环境温度 | 20±2℃ | 20±2℃ | 20±2℃ |
湿度范围 | ≤50% | ≤50% | ≤50% |
加工精度 | 批量生产水平:优于1/70λ (λ=632.8nm) RMS | ||
实验室水平:优于1/100λ (λ=632.8nm) RMS |